1 范圍

      GB 5959的本部分規(guī)定了對具有電子槍的裝置（以下簡稱電子槍裝置）有關(guān)人身裝置安全的特殊要求。本部分適用于所有具有電子槍的電熱裝置。

      本部分也適用于電子槍裝置的預(yù)制和使用輝光放電的非加熱電子槍裝置以及電子槍的高壓電源。GB 5959.1-2005《電熱裝置的安全 第1部分：通用要求》的所有要求適用于本部分。本部分在第6章至第16章中給出了對電子槍裝置的所有附加要求。

2 規(guī)范性引用文件

      下列文件中的條款通過GB5959的本部分的引用而成為本部分的條款。凡是注日期的引用文件，其隨后所有的修改單（不包括勘誤的內(nèi)容）或修訂版均不適用于本部分，然而，鼓勵(lì)根據(jù)本部分達(dá)成協(xié)議的各方研究是否可使用這些文件的最新版本。凡是不注日期的引用文件，其最新版本適用于本部分。

      GB/T 2900.23-2008 電工術(shù)語 工業(yè)電熱裝置（IEC 60050-841：2004，IDT）

      GB 5959.1-2005  電熱裝置的安全 第1部分：通用要求（IEC 60519-1：2003，IDT）

      GB 18871-2002  電離輻射防護(hù)與輻射源安全基本標(biāo)準(zhǔn)

      IEC 60204-1:2005  機(jī)械安全 機(jī)械電氣設(shè)備 第1部分：通用技術(shù)條件

      IEC 60364-4-43  建筑物的電氣裝置 第4部分：安全防護(hù) 第43章：過電流保護(hù)^2）

3 術(shù)語和定義

      GB/T 2900.23-2008和GB 5959.1-2005確立的以及下列術(shù)語和定義適用于本標(biāo)準(zhǔn)。

3.1

      電子束 electron beam

      從一個(gè)源（陰極或等離子體）發(fā)射的，以高速沿著確定的軌跡運(yùn)動的電子流。

      ［GB/T 2900.23-2008 841-30-01，已修改］

3.2

      電子（束）槍 electron（beam）gun

      產(chǎn)生、形成和加速一束或多束電子束的系統(tǒng)。

      ［GB/T 2900.23-2008 841-30-08，已修改］

3.3

      陽極（電子槍的） anode （of an electron gun）

      能夠從具有低導(dǎo)電率介質(zhì)中引出和加速電子的電極。

      ［GB/T 2900.23-2008 841-22-31，已修改］

3.4

      陰極 cathode（of an electron gun）

      能夠從具有低導(dǎo)電率介質(zhì)中發(fā)射電子的電極。如有需要，也接受正電荷。

      ［GB/T 2900.23-2008 841-22-32，已修改］

3.5

      電子束加速電壓 beam accelerating voltage

      在陰極與陽極之間形成的電位差，以產(chǎn)生加速電子的電場。

      [GB/T 2900.23-2008 841-30-29]

3.6

      高壓電源 high-voltage power supply

      提供電子槍發(fā)射電流和加速電壓的電源。

3.7

      回路導(dǎo)體 return conductor

      在內(nèi)置工件的真空室中，高壓電源與電子槍系統(tǒng)的陽極部分之間電氣連接。

3.8

      連鎖 interlock

      為防止當(dāng)設(shè)備動作時(shí)發(fā)生任何形式危害的有關(guān)控制部件。

3.9

      真空室 vacuum chamber

      室內(nèi)空氣稀薄的容器，工件在室內(nèi)得到處理。

3.10

      電子槍室 electron gun chamber

      放置電子槍的真空室。

      注：該室可利用不同口徑的光闌口與工件隔開，以便能在電子槍和工件間建立壓差。

3.11

      電子束偏轉(zhuǎn)系統(tǒng) electron beam deflection system

      使電子束產(chǎn)生空間位移在加熱物體表面移動的電磁線圈或偏轉(zhuǎn)電極系統(tǒng)。

      ［GB/T 2900.23-2008 841-30-25，已修改］

3.12

      電子束彎轉(zhuǎn)系統(tǒng) electron beam bending system

      用于改變電子槍外部的電子束方向的電磁線圈或永磁體。

3.13

      電子聚焦系統(tǒng) electron beam focussing system

      用來在爐料受熱表面上聚焦電子束的電磁線圈、多個(gè)電磁線圈的系統(tǒng)或電容器板。

      ［GB/T 2900.23-2008 841-30-27，已修改］

4 電子束裝置結(jié)構(gòu)

      電子束裝置主要由下列部分構(gòu)成：

      a）電子槍；

      b）高壓電源；

     c）電子束 轉(zhuǎn)和聚焦系統(tǒng)，包括必需的電流源和控制系統(tǒng)；

      d）電子束彎轉(zhuǎn)系統(tǒng)；

      e）工作室和工裝；

      f）真空系統(tǒng)；

      g）控制系統(tǒng)；

      h）附屬裝置（電源、冷卻液、氣動裝置、液壓裝置等）。

      注：有些結(jié)構(gòu)僅在特定的裝置中有，例如，在許多裝置中無彎轉(zhuǎn)系統(tǒng)。

5 電子槍類型

      電子槍的電子束主要用于：

      ——光學(xué)（例如CRT、攝像、圖像掃描、電子顯微鏡）；

      ——一些非加熱裝置（例如聚合物改性、食品加工、殺菌、消毒）；

      ——各種電熱應(yīng)用。

      例如，典型的電熱應(yīng)用于熔煉、加熱、蒸發(fā)和表面處理。

      電子槍可按用途做如下分類：

      ——加速電壓；

      ——額定功率；

      ——電子束圖形和；

      ——電子束的偏轉(zhuǎn)和彎轉(zhuǎn)系統(tǒng)。

6 主要的危險(xiǎn)

      用于電加熱的電子槍，由于其特性，一般可產(chǎn)生下列的危險(xiǎn)：

      ——高壓電擊（見第7、8、9和11章）；

      ——X射線（見第15章）；

      ——真空室內(nèi)由高能量密度引起形成的熱變形（見第14章）。

      另外，可能存在電子束裝置因諸如真空設(shè)備（見第12章）類似的部件所引起危險(xiǎn)和電子槍動作（見第14章）引發(fā)的危險(xiǎn)。

7 維修期的電子槍室高壓接地

7.1 移動式接地裝置

      切斷高壓電源，打開電子槍室的門或靠近電子槍的位置后，對正常運(yùn)行期間帶電的零部件，在接觸之前，必須用移動式接地裝置除去任何殘留電荷。應(yīng)使用設(shè)計(jì)經(jīng)審查認(rèn)可的移動式接地裝置。

      移動式接地裝置的高撓度接地導(dǎo)線應(yīng)永久固定在接地點(diǎn)上。該接地連接點(diǎn)應(yīng)易見和便于操作人員檢查，并要有明顯牢固的標(biāo)記。

7.2 機(jī)械式接地裝置

      可選擇安裝機(jī)械式自動接地裝置，當(dāng)打開槍室時(shí)它可自動機(jī)械動作接地。提供合適性能的這種機(jī)械式自動接地裝置在安全距離內(nèi)能夠易于目視檢查。

7.3 自動式接地裝置

      在下列條件下可任選安裝一種自動式接地裝置：

      a）當(dāng)電子槍停止工作時(shí)，機(jī)構(gòu)自動動作；

      b）由故障自動檢測系統(tǒng)檢查自動機(jī)構(gòu)的性能是否正常；

      c）有明顯信號向打開槍室的人員顯示自動接地機(jī)構(gòu)的性能是否正常；

      d）在確認(rèn)接地裝置正確接地前，經(jīng)審查認(rèn)可設(shè)計(jì)的機(jī)電聯(lián)鎖機(jī)構(gòu)不能打開槍室。

      在緊挨高壓電源處，也應(yīng)在易見位置安裝便攜式接地裝置。

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